スイスのEPFLの研究者ら、高性能CO2分離膜を開発

2019年08月08日

スイスのEPFL Valais WallisのKumar Varoon Agrawal氏率いる研究者らは、従来の燃焼後回収の目標値を大きく上回る、高性能CO2分離膜を新たに開発したことを公表しました。

EPFLのプレスリリースによると、今回開発された分離膜は、層厚20nm以下の薄い選択層を有する単層グラフェンをベースとするもので、化学的な可変性が高く、次世代の高性能膜への道を開く意味を持つとしています。

今回開発された分離膜はCO2の気体透過率が6,180GPU（1GPU=3.35×10-10mol・m-2・s-1・Pa-1）と従来要求されている値1000GPUよりも約6倍高く、分離係数（CO2/N2）は22.5（透過前後での分圧の比、選択性の指標）となっています。さらに、グラフェンの多孔度、細孔サイズ、官能基を最適化すると、GPUは11,790まで上昇したとしています。

詳細は以下をご覧ください。

EPFLによるプレスリリース
https://actu.epfl.ch/news/next-gen-membranes-for-carbon-capture/

関連ニュース
https://www.technologynetworks.com/applied-sciences/news/carbon-capture-improved-with-better-membranes-322200 

https://phys.org/news/2019-07-next-gen-membranes-carbon-capture.html

https://www.azom.com/news.aspx?newsID=51793